エピタキシャルGeナノドット含有Si構造を用いたSi系熱電材料の性能向上

Research output: Contribution to conference › Presentation

Original language	Japanese
State	Published - Mar 2016
Event	第63回応用物理学会春季学術講演会 - Duration: 19 Mar 2016 → …

Conference	第63回応用物理学会春季学術講演会
Period	19/03/16 → …

Cite this

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title = "エピタキシャルGeナノドット含有Si構造を用いたSi系熱電材料の性能向上",

author = "\{山阪司祐人\} and \{渡辺健太郎\} and \{澤野憲太郎\} and \{竹内正太郎\} and \{酒井朗\} and \{中村芳明\} and Kentarou SAWANO",

year = "2016",

month = mar,

language = "Japanese",

note = "第63回応用物理学会春季学術講演会 ; Conference date: 19-03-2016",

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TY - CONF

T1 - エピタキシャルGeナノドット含有Si構造を用いたSi系熱電材料の性能向上

AU - 山阪司祐人, null

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AU - 澤野憲太郎, null

AU - 竹内正太郎, null

AU - 酒井朗, null

AU - 中村芳明, null

AU - SAWANO, Kentarou

PY - 2016/3

Y1 - 2016/3

M3 - 口頭発表

T2 - 第63回応用物理学会春季学術講演会

Y2 - 19 March 2016

ER -