エピタキシャルGe上の直接ALDによるAl2O3層の形成と評価

エピタキシャルGe上の直接ALDによるAl₂O₃層の形成と評価

繁澤えり子, 佐野良介, 池上和彦, 澤野憲太郎, Hiroshi NOHIRA

Research output: Contribution to journal › Misc

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T1 - エピタキシャルGe上の直接ALDによるAl2O3層の形成と評価

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AU - NOHIRA, Hiroshi

PY - 2017

Y1 - 2017

M3 - Misc

SN - 2436-7613

VL - 78th

SP - -

JO - 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)

JF - 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)

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