シリコン酸化膜中のSi 2p光電子の弾性散乱と非弾性散乱

高橋健介, 廣瀬和之, 八木朋之, Hiroshi NOHIRA, 服部健雄

Research output: Contribution to journal › Misc

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@article{a476d3a0d9e54690afcd6849323cdd73,

title = "シリコン酸化膜中のSi 2p光電子の弾性散乱と非弾性散乱",

author = "高橋健介 and 廣瀬和之 and 八木朋之 and Hiroshi NOHIRA and 服部健雄",

year = "1999",

language = "Japanese",

pages = "271 -- 274",

journal = "極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性（第5回研究会）",

number = "AP992204",

}

TY - JOUR

T1 - シリコン酸化膜中のSi 2p光電子の弾性散乱と非弾性散乱

AU - 高橋健介, null

AU - 廣瀬和之, null

AU - 八木朋之, null

AU - NOHIRA, Hiroshi

AU - 服部健雄, null

PY - 1999

Y1 - 1999

M3 - Misc

SP - 271

EP - 274

JO - 極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性（第5回研究会）

JF - 極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性（第5回研究会）

IS - AP992204

ER -