極低温下におけるnMOSFETのチャネルホットキャリア(CHC)劣化とF-Nストレス劣化の相違

鈴木 達也, 宮木 耀平, 三谷 祐一郎, Yuichiro MITANI

Research output: Contribution to conferencePresentation

Original languageJapanese
StatePublished - 17 Mar 2025
Event第72回応用物理学会春季学術講演会 -
Duration: 14 Mar 2025 → …

Conference

Conference第72回応用物理学会春季学術講演会
Period14/03/25 → …

Cite this