水素ラジカルによる遷移金属の選択加熱を用いた多結晶Si膜形成とデバイスプロセス応用

中家大希, 上村和貴, 荒井哲司, 有元圭介, 山中淳二, 佐藤哲也, 中川清和, 高松利行, Kentarou SAWANO

Research output: Contribution to conferencePresentation

Original languageJapanese
StatePublished - 17 Mar 2014
Event第61回 応用物理学春季学術講演会 -
Duration: 17 Mar 2014 → …

Conference

Conference第61回 応用物理学春季学術講演会
Period17/03/14 → …

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