高空間分解能HXPESによるSiGe価電子帯への一軸歪みの影響の検出

Research output: Contribution to conferencePoster

Conference

Conference応用物理学会 薄膜・表面物理分科会・シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会 「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」(第19回研究会) (旧 「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」研究会)
Period1/01/14 → …

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