2段階成長法によるSi(111)基板上Ge薄膜の作製

久保智史, 星裕介, Kentarou SAWANO, 浜屋宏平, 浜屋宏平, 宮尾正信, 有元圭介, 山中淳二, 中川清和, 白木靖寛

Research output: Contribution to journal › Misc

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TY - JOUR

T1 - 2段階成長法によるSi(111)基板上Ge薄膜の作製

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PY - 2011

Y1 - 2011

M3 - Misc

VL - 72nd

SP - -

JO - 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)

JF - 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)

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