Capping gate構造を有するSi/SiGe量子ドットの作製と評価

福岡佑二, 小寺哲夫, 武田健太, 小幡利顕, 吉田勝治, Kentarou SAWANO, 内田建, 白木靖寛, 樽茶清吾, 小田俊理

Research output: Contribution to conference › Presentation

Original language	Japanese
State	Published - Mar 2012
Event	2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会 - Duration: 15 Mar 2012 → …

Conference	2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会
Period	15/03/12 → …

Cite this

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TY - CONF

T1 - Capping gate構造を有するSi/SiGe量子ドットの作製と評価

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AU - SAWANO, Kentarou

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PY - 2012/3

Y1 - 2012/3

M3 - 口頭発表

T2 - 2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会

Y2 - 15 March 2012

ER -