XPS時間依存測定法によるラジカル（Kr/O²）酸化膜中電荷トラップの解析

廣瀬和之, 坂野公彦, 高橋健介, Hiroshi NOHIRA, 大見忠弘, 服部建雄

Research output: Contribution to journal › Misc

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year = "2000",

language = "Japanese",

pages = "18 -- 21",

journal = "シリコンテクノロジー",

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TY - JOUR

T1 - XPS時間依存測定法によるラジカル（Kr/O²）酸化膜中電荷トラップの解析

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AU - NOHIRA, Hiroshi

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PY - 2000

Y1 - 2000

M3 - Misc

SP - 18

EP - 21

JO - シリコンテクノロジー

JF - シリコンテクノロジー

IS - 21

ER -